提高生产力和技术革新高速投影曝光装置MMS(MejiroMicroStepper)我们的光刻类型曝光机，是以印刷电路板MMS做为基础的，综合考量购置成本等设计而成的新一代投影曝光装置，具有高性能的外...

技术的特征：1.高性能、大场地投影镜头（插入链接mms_doc1)2.全球定位系统（插入连接mms_doc2)3.高速XY轴平台4.高刚性材质5.对应的搬运柔软性6.超解像技术和景深的提高（插入链接...

市场上销售的标准品物镜是无法满足客户的需求的，特别的波长和特殊的光学系统就需要订做。详情敬请咨询。照明光学系统也配合客户订做。

本公司光刻机ASS/MMS系列装载的标准镜头镜片，可以单独供给或照明系组合供给。大口径·一揽子曝光发挥威力的投影镜头等定制产品OEM供应。

BMH-252说明：（BMH-250为日本国内使用，BMH-252及其它日本国外使用）特点安定性高：BMH-252AF使用直流点灯，与交流点灯相比发射出的光闪烁更少，适用于高速画像的处理。均匀性高：...

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名称：明视野显微镜镜头20X倍率：20XNA:0.4WD(mm)：11.1

名称：暗视野显微镜镜头5X倍率：5XNA:0.13WD(mm)：9.6

名称：CCD显微镜1X倍率：1XNA:0.12WD(mm)：27.5

名称：暗视野显微镜镜头10X倍率：10XNA:0.3WD(mm)：4.5

名称：暗视野显微镜镜头20X倍率：20XNA:0.46WD(mm)：2.8

名称：暗视野显微镜镜头40X倍率：40XNA:0.65WD(mm)：1.0

名称：暗视野显微镜镜头60X倍率：60XNA:0.8WD(mm)：0.7

名称：明视野显微镜镜头5X倍率：5XNA:0.13WD(mm)：11.6

名称：明视野显微镜镜头10X倍率：10XNA:0.3WD(mm)：6.4

名称：明视野显微镜镜头50X倍率：50XNA:0.55WD(mm)：8.2